Die besondere Beschaffenheit der epitaxierten Wafer ermöglicht eine außer-gewöhnliche Qualität, die hauptsächlich für diskrete Anwendungen und höchst-integrierte Halbleiterbauelemente (ICs) notwendig ist.

Polierte Wafer bilden die Basis epitaxierter Wafer. In einem nachfolgenden Schritt
wird eine weitere Siliciumschicht auf die polierte Kristalloberfläche aufgetragen.

Siltronic bietet epitaxierte Wafer in den Durchmessern 125 mm bis 300 mm an.
Um verschiedenen Voraussetzungen gerecht zu werden, werden Substrate und Epitaxieschichten kundenspezifisch eingesetzt.